国产光刻机不可能被永远卡脖子 (转贴)

中国实现65nm国产光刻机量产，可制造28nm芯片。那国产光刻机问世究竟意味着什么呢，美国还能对中国卡脖子吗？

1.     国产光刻机的意义

2024年9月2日，工信部发布的重大技术装备目录里，两台光刻机吸引了人们的视线，其中的氟化氩光刻机作为干式DUV光刻机，分辨率为65nm、套刻精度达8nm，可以支持28nm节点芯片的制造。我们需要知道的是，节点的大小直接影响到芯片的集成度、性能、功耗以及制造成本，也就是说芯片的节点尺寸越小，集成的晶体管也就越多，从而实现芯片的性能提高和功耗降低。

可能很多人不太了解28nm节点对我国的意义，那这里就需要来解释一下了，28nm被认为是高性能芯片的起点，是先进制程与成熟制程的分水岭，既能用于高性能处理器，还可以满足互联网、汽车电子等领域的需求。

毕竟我国对于高性能芯片的需求一直在持续增长，仅2023年一年，我国就进口芯片金额达3500亿美元，进口光刻机数量为225台，金额超87亿美元，并且根据海关总署数据显示，2024年前七个月，中国的芯片进口总量达到了3081亿片，价值约2120亿美元。

 如今，国产光刻机的诞生，不仅意味着我国能生产高性能芯片，还能减少高性能芯片和光刻机的对外依赖程度。那可能还有人疑惑了，明明全球著名的光刻机公司是荷兰阿斯麦，为何美国还能制霸芯片行业卡中国脖子呢？

2.     为何美国能制霸芯片行业

众所周知，光刻机设备常年被荷兰的阿斯麦公司垄断，占据了全球90%以上的市场份额，剩下的则是被日本的尼康、佳能所占据，更高端的EUV光刻机则是被阿斯麦完全垄断，一台售价达到了10亿人民币，美国能制霸芯片行业当然也是和阿斯麦有关系。

在上世纪九十年代，英特尔、尼康、佳能生产的光刻机，都被卡在了波长193nm上没能更进一步，而这时阿斯麦却投机取巧，决定将技术从干式法转向湿刻法，将193nm的波长直接降低到了132nm，虽然没能让阿斯麦一骑绝尘，但也在不少半导体公司中脱颖而出。

直到1997年，美国能源部和英特尔成立了EUV联盟，就是为了搞定EUV光刻技术，美国甚至还动用了，曾经参与研发核武器的三大国家实验室，阿斯麦为了能获得技术扶持，同意在美国建造一家工厂和研发中心满足本地需求，还保证55%的零部件从美国供应商采购，并接受定期审查。这也是为何阿斯麦光刻机零部件来源国众多，就比如光源和控制软件来自美国，超精密机械及蔡司镜头来自德国等等，也正因此阿斯麦也成为了美国的“提线木偶”，美国也能禁止光刻机出口中国。

如今，新型国产光刻机成功诞生，虽然其性能相当于第四代光刻机，但这只是我国从0到1的突破，之后从1到100的那段路，我国向来是飞速发展。就比如2007年美国曾扬言中国想要生产舰载机需要100年，结果只用了5年，我国的歼15就已横空出世，光刻机同样也是如此，届时美国再想卡中国脖子那就是痴人说梦了。